近期看到FPGA大廠陸續推出3D系統晶片，令人想起幾前年半導體產業開始積極推展的3D晶片，似乎經過幾年的醞釀，目前開始看到該技術的開花結果。只不過，Altera台灣區總經理陳英仁指出，這些其實都是屬於2.5D的製程，不是真正3D的技術範疇。3D製程的技術含量更深，目前仍是個很大的挑戰。

3D晶片要真正商用化，現在仍太早。

陳英仁說，目前FPGA大廠所標榜的3D晶片，其實都只是2.5D製程技術，並非真正的3D晶片。目前2.5D技術逐漸成熟，產品也陸續推出市場。然而，從2.5D到3D，這看似短短一步可及的距離，事實上其技術難度卻有如天與地一般遙遠。

2.5D晶片的採用，其實正是3D真正商用化之前的一種替代方案。2.5D晶片其實就是將主動元件放在被動的矽中介層上。矽中介層能平行連接數個矽切片，透過和PCB上不同的IC金屬互連方式，這些矽片能經由該中介層的金屬互連來連接。

3D晶片經過幾年的發展，儘管已經克服許多困難，但3D晶片要真正商用化，坦白說現在仍太早。3D晶片等同於整體晶片設計的革命性突破，這包括從基礎IC設計、晶片封裝到散熱機構等細節。

3D晶片最大的挑戰，最先面臨的就是晶片的連接方式。目前最可行的TSV，是在數個垂直堆疊的晶片上穿孔來連接晶片，但技術尚未成熟，成本也高，良率相對偏低。其次是散熱。當多個主動式晶片堆疊在一起時，每個晶片運作所散發的熱要如何排出就是個大問題。特別是當晶片堆疊在一起時，中間部份幾乎無法散熱。曾有工程師提出3D晶片中，透過風孔排熱的構想，但難以實現。散熱問題不解決，3D晶片便很難跨出下一步。

此外，TSV的穿孔，也會在晶片發熱時產生大問題。晶片遇熱膨脹後，應力會影響週邊的電晶體性能，這是TSV發展過程中最難解決的部分。專家認為，3D晶片要走到成熟的階段，估計還要至少3年以上。看來，這短短0.5D的路，半導體產業還得走上很久。