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全球半導體資本設備市場加速成長 明年增45%
 

【CTIMES/SmartAuto 報導】   2009年12月14日 星期一

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國際研究暨顧問機構Gartner預測,2009年全球半導體資本設備支出將衰退42.6%,但整體市場現正快速成長,復甦情況顯著,預計2010年全球半導體資本設備支出將成長 45.3%。

Gartner 研究副總Dean Freeman 指出,晶圓代工支出與少數記憶體廠的選擇性支出,帶動了2009下半年半導體設備市場的成長。Freeman表示,2010年的成長主要會由上半年技術升級的帶動。2010年第三季單季成長率在產能增加前,將微幅下滑。整體資本設備產業預期自2010年底起,將一路大幅成長至2011年。

表一 : 2009-2014年全球半導體資本設備支出預估(單位:百萬美元)

 2009年 2010年 2011年 2012年 2013年 2014年
半導體資本支出 25,272.436,728.447,826.356,959.048,734.653,636.9
成長率 (%)-42.645.330.219.1-14.410.1
資本設備 16,297.225,471.832,660.438,584.431,469.535,604.7
成長率 (%)-46.856.328.218.1-18.413.1
晶圓廠設備 12,572.219,685.925,451.030,466.725,297.328,475.1
成長率 (%)-48.156.629.319.7-17.012.6
封裝設備 2,378.13,634.74,626.15,270.93,996.74,686.4
成長率 (%)-40.552.827.313.9-24.217.3
自動測試設備 1,346.92,151.22,583.32,846.82,175.52,443.1
成長率 (%)-44.959.720.110.2-23.612.3
其他支出 8,975.311,256.615,165.918,374.617,265.118,032.3
成長率 (%)-32.925.434.721.2-6.04.4

資料來源:Gartner (2009年12月)

根據Gartner預測,全球晶圓廠設備(WFE)2009年支出預估將減少48.1%。WFE產業的2010年支出年增率,可能由Gartner 先前在九月預估的38%,提高至56.6%。晶圓產業在2010年面臨的關鍵議題在於能否將技術順利提升製程,使用193奈米浸潤式步進機(immersion stepper)。晶圓代工大廠台積電將在明年引進首批浸潤式步進機。而在記憶體廠方面,若要將DRAM先進製程技術推進至40奈米,同樣也需浸潤式機台。Gartner分析師認為,浸潤式機台目前並無缺貨跡象,但市場若持續升溫,新機台能否順利導入的問題,恐將限制WFE產業的2010年成長率。

而在全球封裝設備(PAE)上,在2009年的支出預估將減少40.5%,但在2010年將增加52.8%,其中部分產業的設備支出,將有較顯著成長。例如晶圓級封裝、3D製程,及矽晶穿孔(TSV)廠商,在設備方面的需求成長率,將高於其他產業。

至於全球自動測試設備(ATE),在2009年的支出逐步下滑44.9%。不過,隨著邁入2010年後,將有59.7%的成長。展望2010年, Gartner預估,自動測試設備產業將有近60%的高成長,而成長動能主要受惠於DDR3記憶體主流市場的轉變。

Gartner 研究副總Bob Johnson指出,半導體設備市場的未來表現將持續受到客戶減少、產業整併,以及半導體公司歇業等因素所影響。對半導體設備產業而言,儘管這看似黑暗期的到來,但當產業整併結束後,一個更強的半導體設備產業將出現。

關鍵字: 晶圓代工  晶圓封裝  3DICTSV  Gartner 
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