Intermolecular與爾必達宣布了一項新的合作發展計劃（ CDP）和授權協議，以加速爾必達次世代IC新材料與製程技術的發展。這項合作發展計畫將採用Intermolecular物理氣相沉積（ PVD）與原子層沉積（ ALD ）的工作流程和應用方案。

此一與爾必達合作的計畫是以Intermolecular的High-Productivity Combinatorial（HPC）技術為基礎，將主要用於發展適用於批量生產的先進記憶體技術。

透過Intermolecular的平台設備及該公司資訊處理網路軟體的支援， Intermolecular與爾必達研發部門將進行緊密的合作。Intermolecular資訊處理軟體系統可準確無誤地將資料處理和測量儀器整合到統一的研發流程。此資訊處理系統可自動產生實驗的執行，可進行實驗分組、設計與追蹤， 並可聯合電性測試數據，以及利用廣為周知的統計方法以自動分析與詮釋數據並產生報告。

物理氣相沉積系統與原子層沉積系統是Intermolecular Tempus HPC平台的一部份，可促使前段（ FEOL ）和後段（ BEOL ）製程快速發展。由於此一應用平台具備批量製程同步處理、特性校準及資訊處理等功能，因此可加快研發的速度、創造更大的投資報酬並降低風險。

Intermolecular是半導體產業中唯一提供完全整合、組合式研發技術的廠商，其技術是以系統和方法學為核心，可徹底加速新材料、新製程技術和新元件結構的開發與整合。Intermolecular的Tempus HPC平台通過具有經濟效益的快速開發、整合以及測試多種可選擇的解決方案，能協助客戶創造最大的研發投資報酬率。