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霍尼韋爾與 Cabot簽署專利相互授權協議 (2006.01.03)
霍尼韋爾旗下的電子材料部宣布已與 Cabot 公司針對半導體產業的鉭(Ta) 材料與產品，簽署一項專利相互授權協議。本協議讓鉭金屬供應商 Cabot 公司與霍尼韋爾公司(專業製造用於生產半導體晶片的物理蒸氣沈積法 (PVD) 濺鍍靶材)雙方能夠更廣泛的利用鉭專利組合，為製造半導體的客戶提供更佳的服務


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