Intermolecular与尔必达宣布了一项新的合作发展计划（ CDP）和授权协议，以加速尔必达次世代IC新材料与制程技术的发展。这项合作发展计划将采用Intermolecular物理气相沉积（ PVD）与原子层沉积（ ALD ）的工作流程和应用方案。

此一与尔必达合作的计划是以Intermolecular的High-Productivity Combinatorial（HPC）技术为基础，将主要用于发展适用于批量生产的先进内存技术。

透过Intermolecular的平台设备及该公司信息处理网络软件的支持， Intermolecular与尔必达研发部门将进行紧密的合作。Intermolecular信息处理软件系统可准确无误地将数据处理和测量仪器整合到统一的研发流程。此信息处理系统可自动产生实验的执行，可进行实验分组、设计与追踪， 并可联合电性测试数据，以及利用广为周知的统计方法以自动分析与诠释数据并产生报告。

物理气相沉积系统与原子层沉积系统是Intermolecular Tempus HPC平台的一部份，可促使前段（ FEOL ）和后段（ BEOL ）制程快速发展。由于此一应用平台具备批量制程同步处理、特性校准及信息处理等功能，因此可加快研发的速度、创造更大的投资报酬并降低风险。

Intermolecular是半导体产业中唯一提供完全整合、组合式研发技术的厂商，其技术是以系统和方法学为核心，可彻底加速新材料、新制程技术和新组件结构的开发与整合。Intermolecular的Tempus HPC平台通过具有经济效益的快速开发、整合以及测试多种可选择的解决方案，能协助客户创造最大的研发投资报酬率。