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CTIMES / 工業閘道器
科技
典故
第一顆電晶體(Transistor)的由來

第二次世界大戰末期,貝爾實驗室開始一項研究計畫,目標是研發出一種體積更小、功能更強大、更快速且可靠的裝置來取代真空管。1947年12月23日,由貝爾實驗室研發的電晶體取代了真空管,優點是體積更小、更可靠、且成本低廉,不僅孕育了今日遍及全球的電子半導體產業,同時也促成電訊電腦業、醫學、太空探測等領域產生戲劇性的改變。
新漢、Hilscher聯合開發新工業閘道器 (2015.12.02)
新漢智動化事業群與德國工業通訊技術廠商Hilscher聯合發表工業閘道器解決方案,將生產現場數據資料,上傳至雲端進行大數據分析,打通工業物聯網最後一哩路。在「工業4

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