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R&S攜手GREENERWAVE合作驗證RIS模組 推動6G研究發展 (2023.09.12)
可重構智慧表面（RIS）因其可為5G毫米波部署，及未來6G應用提高效率的潛力，在無線通訊產業中引起關注；德國領導性量測儀器公司Rohde & Schwarz （R&S）和法國新創公司Greenerwave在最近的驗證測試合作中 |
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國研院頒發研發服務平台亮點成果獎 成大研究團隊獲特優獎 (2023.08.31)
為了表彰產官學研各界使用國研院旗下的7個研究中心所提供的各種專業研發服務平台，進而研發前瞻科學與技術成果，國研院徵選「研發服務平台亮點成果獎」，2023年由成功大學電機工程學系詹寶珠特聘教授的研究團隊獲得特優獎 |
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歐盟資助SYNAPTIC專案研發先進的設計合成工具流程 (2013.04.12)
由歐盟第七期科研架構計畫資助的企業學術聯盟宣佈一項三年期專案圓滿結束，並發佈了設計合成工具流程以及相關的親微影（litho-friendly）單元庫和評估工具。
SYNAPTIC研究專案由來自歐洲和巴西的8家產學機構組成 |
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KLA-Tencor推出新一代光罩缺陷檢測平臺 (2009.09.16)
KLA-Tencor公司宣佈推出了Teron 600系列光罩缺陷檢測系統。全新的 Teron 600平臺中加入了可編程掃描機曝光功能，並且靈敏度和模擬光刻計算功能上與當前行業標準平台TeraScanTMXR相比，有明顯改進，為2Xnm邏輯（3Xnm HP記憶體）節點下的光罩設計帶來了一次重大轉型 |
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IC實體設計自動化所面臨的挑戰 (2003.06.05)
電子設計自動化（Electronic Design Automation；EDA）為我國「晶片系統國家型科技計畫」中，推動我國成為世界級晶片設計中心的重要議題；本文將針對目前EDA後段實體設計部分在SoC時代所面臨的挑戰，為讀者進行全面而扼要的解析 |
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錙銖必較－奈米設計建構上的需求 (2003.04.05)
奈米等級的IC設計不但所需技術愈趨複雜化，設計的過程中可能遇到的問題也隨著製程的微小化而增加；本文將分析進行奈米級IC設計時，工程師應掌握的關鍵議題與必須面臨的挑戰，並指出目前的技術可克服的瓶頸與未來趨勢的發展 |
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Mentor Graphics加強Calibre RET (2003.03.06)
明導國際 (Mentor Graphics) 日前宣佈，該公司已大幅加強CalibreO系列的解析度強化技術(RET)工具，確保Calibre解析度強化技術的建模精準度 (modeling accuracy) 有效滿足未來三個技術節點需求 |
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聯電與Numerical延續相移技術授權協議 (2003.01.22)
聯電(UMC)與次波長蝕刻技術供應商Numerical近日表示，為因應晶圓專工邁向90奈米製程，聯電將延續與Numerical的相移技術授權協議。雙方除了延續1999年開始的合作研究及促進100奈米以下的積體電路製程技術發展外，此項三年協議亦延續雙方在2000年12月開始的授權合作關係 |
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晶圓雙雄分與外商合作 開發0.11微米以下先進製程 (2003.01.22)
據Chinatimes報導，半導體次波長蝕刻技術供應商Numerical Technologies日前與聯華電子宣佈，雙方延續1999年與Numerical 的相移技術授權協議，聯電並將於第二季與美商智霖（Xilinx）等客戶，共同開發試產90奈米製程技術 |
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Synopsys購併Numerical (2003.01.21)
美商新思科技(Synopsys)日前表示，該公司已與次波長感光印刷技術供應商Numerical公司簽訂最終合約，Synopsys將以每股七美元併購Numerical公司全部發行的普通股。該項併購將使電子設計自動化(EDA)以及感光印刷電路解決方案的兩間大廠合而為一，有助於降低設計積體電路的成本與風險 |
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Numerical授權三星相移技術 (2002.12.25)
根據外電消息，次波長蝕刻技術供應商Numerical，日前與三星電子（Samsung）簽署授權協議，三星將以Numerical的相移技術（phase-shifting）生產新一代的SRAM，預計明年初開始投產 |
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Numerical與Samsung簽署生產授權協議 (2002.12.20)
Numerical與三星電子近日簽署一份授權協議，Samsung將透過Numerical的相移技術（phase-shifting）生產新一代SRAM產品。在簽署此項協議之前，雙方團隊歷經長時間的研發合作，為此項產品進行120奈米元件生產製程的改良，預計將於明年初開始進行量產 |
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Mentor Graphics Calibre部門與IMEC合作 (2002.06.03)
Mentor Graphics於5月28日宣佈，Mentor Calibre部門已和IMEC達成一項合作協議，將共同發展次波長微影技術（subwavelength microlithography）。IMEC是歐洲最重要的獨立研究中心，研究領域涵蓋微電子、奈米技術、資訊和通信系統的設計方法和技術 |
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Mentor Graphics的 Calibre DRC佳績頻傳 (2002.02.28)
Mentor Graphics於日前宣佈，Calibre DRC在積體電路實體驗證市場的領先優勢持續擴大。根據Dataquest於2001年10月發表一篇名為「電子設計自動化2001年：身為電子設計自動化廠商真好」的報告，Calibre在2000年共拿下57%的DRC市場，相較於1999年的47%領先優勢，市場佔有率又增加一成 |
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衛星定位系統 GPS 晶片應用 (2001.11.05)
衛星定位系統（Global Positioning System；GPS）是由美國國防部在冷戰時期為了軍事用途而設計部署的計畫，其主要目的在協助飛彈導航、軍事偵查及地形勘查為主。衛星定位系統的使用，在以前大都使用於飛機、船隻的導航或一些地理位置的量測，然而目前此衛星定位系統的應用已經慢慢逐漸的進入我們每個人的生活周遭 |
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ATI將採用明導Calibre來發展多媒體晶片 (2000.11.21)
明導資訊(Mentor Graphics)宣佈，以3D繪圖／視訊加速與多媒體解決方案的全球主要供應商ATI已決定，他們將採用Mentor Graphics 的實體驗証與次波長套裝工具Calibre，以便發展下一代的高效能多媒體晶片 |
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明導次波長解決方案工具獲聯電採用 (2000.09.21)
明導資訊(Mentor Graphics)於日前宣佈，聯華電子已決定採用該公司的套裝工具--Calibre做為次波長解決方案(sub-wavelength solution)。明導表示，在製程技術進入次波長(sub-wavelength)的時候，一定需要應用解析度強化技術(Resolution Enhancement Technologies, RET)，使用Calibre可以享有快速的作業時間(turn-around time)和精確性 |
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ASML MaskTools與Mentor Graphics達成合作協議 (1999.12.22)
為了克服半導體設計與「次波長」(sub-wavelength)製造間日益擴大的障礙，ASML MaskTools公司，與Mentor Graphics最近就簽訂了一項合作協議，它將會結合雙方在影像處理設備、軟體和先進製程方面的技術和經驗，並且發展出一套完全整合的製程解決方案，MaskTools是ASML公司獨資擁有的一家關係企業 |
