 |
R&S携手GREENERWAVE合作验证RIS模组 推动6G研究发展 (2023.09.12)
可重构智慧表面（RIS）因其可为5G毫米波部署，及未来6G应用提高效率的潜力，在无线通讯产业中引起关注；德国领导性量测仪器公司Rohde & Schwarz （R&S）和法国新创公司Greenerwave在最近的验证测试合作中 |
|
国研院颁发研发服务平台亮点成果奖 成大研究团队获特优奖 (2023.08.31)
为了表彰产官学研各界使用国研院旗下的7个研究中心所提供的各种专业研发服务平台，进而研发前瞻科学与技术成果，国研院徵选「研发服务平台亮点成果奖」，2023年由成功大学电机工程学系詹宝珠特聘教授的研究团队获得特优奖 |
 |
欧盟资助SYNAPTIC项目研发先进的设计合成工具流程 (2013.04.12)
由欧盟第七期科研架构计划资助的企业学术联盟宣布一项三年期项目圆满结束，并发布了设计合成工具流程以及相关的亲微影（litho-friendly）单元库和评估工具。
SYNAPTIC研究项目由来自欧洲和巴西的8家产学机构组成 |
|
KLA-Tencor推出新一代光罩缺陷检测平台 (2009.09.16)
KLA-Tencor公司宣布推出了Teron 600系列光罩缺陷检测系统。全新的 Teron 600平台中加入了可编程扫描机曝光功能，并且灵敏度和仿真光刻计算功能上与当前行业标准平台TeraScanTMXR相比，有明显改进，为2Xnm逻辑（3Xnm HP内存）节点下的光罩设计带来了一次重大转型 |
 |
IC实体设计自动化所面临的挑战 (2003.06.05)
电子设计自动化（Electronic Design Automation；EDA）为我国「晶片系统国家型科技计画」中，推动我国成为世界级晶片设计中心的重要议题；本文将针对目前EDA后段实体设计部分在SoC时代所面临的挑战，为读者进行全面而扼要的解析 |
|
锱铢必较－奈米设计建构上的需求 (2003.04.05)
奈米等级的IC设计不但所需技术愈趋复杂化，设计的过程中可能遇到的问题也随着制程的微小化而增加；本文将分析进行奈米级IC设计时，工程师应掌握的关键议题与必须面临的挑战，并指出目前的技术可克服的瓶颈与未来趋势的发展 |
|
Mentor Graphics加强Calibre RET (2003.03.06)
明导国际(Mentor Graphics) 日前宣布，该公司已大幅加强CalibreO系列的解析度强化技术(RET)工具，确保Calibre解析度强化技术的建模精准度(modeling accuracy) 有效满足未来三个技术节点需求 |
|
联电与Numerical延续相移技术授权协议 (2003.01.22)
联电(UMC)与次波长蚀刻技术供应商Numerical近日表示，为因应晶圆专工迈向90奈米制程，联电将延续与Numerical的相移技术授权协议。双方除了延续1999年开始的合作研究及促进100奈米以下的积体电路制程技术发展外，此项三年协议亦延续双方在2000年12月开始的授权合作关系 |
|
晶圆双雄分与外商合作开发0.11微米以下先进制程 (2003.01.22)
据Chinatimes报导，半导体次波长蚀刻技术供应商Numerical Technologies日前与联华电子宣布，双方延续1999年与Numerical 的相移技术授权协议，联电并将于第二季与美商智霖（Xilinx）等客户，共同开发试产90奈米制程技术 |
|
Synopsys购并Numerical (2003.01.21)
美商新思科技(Synopsys)日前表示，该公司已与次波长感光印刷技术供应商Numerical公司签订最终合约，Synopsys将以每股七美元并购Numerical公司全部发行的普通股。该项并购将使电子设计自动化(EDA)以及感光印刷电路解决方案的两间大厂合而为一，有助于降低设计积体电路的成本与风险 |
|
Numerical授权三星相移技术 (2002.12.25)
根据外电消息，次波长蚀刻技术供应商Numerical，日前与三星电子（Samsung）签署授权协议，三星将以Numerical的相移技术（phase-shifting）生产新一代的SRAM，预计明年初开始投产 |
|
Numerical与Samsung签署生产授权协议 (2002.12.20)
Numerical与三星电子近日签署一份授权协议，Samsung将透过Numerical的相移技术（phase-shifting）生产新一代SRAM产品。在签署此项协议之前，双方团队历经长时间的研发合作，为此项产品进行120奈米元件生产制程的改良，预计将于明年初开始进行量产 |
|
Mentor Graphics Calibre部门与IMEC合作 (2002.06.03)
Mentor Graphics于5月28日宣布，Mentor Calibre部门已和IMEC达成一项合作协议，将共同发展次波长微影技术（subwavelength microlithography）。IMEC是欧洲最重要的独立研究中心，研究领域涵盖微电子、奈米技术、信息和通信系统的设计方法和技术 |
|
Mentor Graphics的 Calibre DRC佳绩频传 (2002.02.28)
Mentor Graphics于日前宣布，Calibre DRC在集成电路实体验证市场的领先优势持续扩大。根据Dataquest于2001年10月发表一篇名为「电子设计自动化2001年：身为电子设计自动化厂商真好」的报告，Calibre在2000年共拿下57%的DRC市场，相较于1999年的47%领先优势，市场占有率又增加一成 |
|
卫星定位系统 GPS 晶片应用 (2001.11.05)
卫星定位系统（Global Positioning System；GPS）是由美国国防部在冷战时期为了军事用途而设计部署的计画，其主要目的在协助飞弹导航、军事侦查及地形勘查为主。卫星定位系统的使用，在以前大都使用于飞机、船只的导航或一些地理位置的量测，然而目前此卫星定位系统的应用已经慢慢逐渐的进入我们每个人的生活周遭 |
|
ATI将采用明导Calibre来发展多媒体晶片 (2000.11.21)
明导资讯(Mentor Graphics)宣布，以3D绘图／视讯加速与多媒体解决方案的全球主要供应商ATI已决定，他们将采用Mentor Graphics 的实体验证与次波长套装工具Calibre，以便发展下一代的高效能多媒体晶片 |
|
明导次波长解决方案工具获联电采用 (2000.09.21)
明导资讯(Mentor Graphics)于日前宣布，联华电子已决定采用该公司的套装工具--Calibre做为次波长解决方案(sub-wavelength solution)。明导表示，在制程技术进入次波长(sub-wavelength)的时候，一定需要应用解析度强化技术(Resolution Enhancement Technologies, RET)，使用Calibre可以享有快速的作业时间(turn-around time)和精确性 |
|
ASML MaskTools与Mentor Graphics达成合作协议 (1999.12.22)
为了克服半导体设计与「次波长」(sub-wavelength)制造间日益扩大的障碍，ASML MaskTools公司，与Mentor Graphics最近就签订了一项合作协议，它将会结合双方在图像处理设备、软件和先进制程方面的技术和经验，并且发展出一套完全整合的制程解决方案，MaskTools是ASML公司独资拥有的一家关系企业 |
