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微软的崛起

微软于1975年,由比尔盖兹和好友保罗艾伦共同成立,1981年,比尔盖兹完成的MS-DOS 第一版与IBM生产的第一部个人计算机同步推出,藉由MS-DOS的成功,微软陆续推出了很多广受欢迎的软件,除了注重产品间的兼容性,也在软件开发上重视长期目标的策略, 这就是微软能持续保有市场的原因。
ASM携手清大设计半导体制程模拟实验 亮相国科会「科普环岛列车」 (2024.10.22)
全球半导体前端制程设备龙头企业ASM台湾先艺科技(Euronext Amsterdam: ASM)首度赞助国科会「台湾科普环岛列车」,今(22)日於台中新乌日站启航,并与清华大学跨领域科学教育中心共同设计碘液烟熏、酸硷液氧化还原反应等科普实验,带领近千名学子一探AI浪潮下ASM前瞻半导体技术的基础概念,期待未来能吸引更多学生投身半导体领域
ASM双腔体碳化矽磊晶平台 满足先进碳化矽功率元件领域需求 (2024.10.07)
ASM 发布了全新PE2O8碳化矽磊晶系统。这款双腔体碳化矽(SiC)磊晶 (Epi)平台旨在满足先进碳化矽功率元件领域的需求,具备低缺陷率、高制程稳定性,成为业界标竿。PE2O8具备更高的产量和较低的拥有成本,促进了碳化矽元件的更广泛应用
ASM在台首个培训中心落脚台南 首次引进VR训练技术 (2023.08.17)
ASM International N.V.(Euronext Amsterdam: ASM)今(17)日宣布,在台湾成立的首个培训中心正式启用,落脚台南科学园区,将充分强化 ASM 在台湾的技术能量,未来将得以深化对人才的培育,以及为客户提供更即时、更紧密的服务与支援
ASM和SAFC签订认证制造厂商与合作协议 (2009.01.16)
ASM International N.V.和 Sigma-Aldrich子公司SAFC旗下的SAFC Hitech宣布针对进阶超介电常数绝缘层(advanced Ultra High-k insulators)之特定原子层沉积(ALD)原料签订认证制造厂商与合作协议。 该协议提供化学原料之认证标准、特定ASM ALD 专利之授权许可,以及针对这些化学原料的营销与进阶开发合作关系
ASM提出新技术解决high k与金属栅的挑战 (2008.05.22)
ASM推出一个全新的原子层沈积(ALD)制程。该制程采用氧化镧(LaOx)及氧化铝(AlOx)高介电值覆盖层,使得32纳米high k金属闸极堆栈采用单一金属,而不是之前CMOS所需要的两种不同的金属
Victrex APTIV薄膜获得ASM Flexitest 2030采用 (2007.09.12)
VICTREX PEEK聚合物和VICOTE涂料等高性能材料的全球领先制造商英国威格斯公司(Victrex plc)11日宣布,以VICTREX PEEK聚合物为基础的APTIV薄膜已获得全球领先半导体封装设备供货商ASM Pacific Technology Ltd
半导体薄膜沉积市场复苏 (2002.07.24)
综合外电消息,整体薄膜沉积市场正如预期般复苏中,特别是新兴市场ALD(Atomic Layer Deposition;原子层沉积)最为显著。 根据Information Network指出,由于去年半导体产业景气低迷,连带使整体薄膜沉积设备市场仅达到34亿美元,整整衰退了46.1%,预计今年将有4%的成长率,整体市场可望成展至36亿美元

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