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陶氏發表OPTIPLANE先進半導體製造化學機械研磨液平台 (2016.08.02)
陶氏電子材料是陶氏化學公司(DOW)的一個事業部,推出 OPTIPLANE化學機械研磨液 (CMP) 平台。OPTIPLANE 研磨液系列的開發是為了滿足客戶對先進半導體研磨液的需求:能以有競爭力的成本,符合減少缺陷的要求和更嚴格的規格,適合用來製造新一代先進半導體裝置


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