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台积扩资本支出达280~300亿元 补助供应商加速减碳 (2024.02.19)
农历年节过後，受益於人工智慧（AI）热门话题带动台湾半导体产业股价屡创新高，又以台积公司身为晶圆代工龙头角色，更早在今年初1月18日法说会上，即宣告将加码资本支出280~320亿美元，扩及上中游半导体设备供应链厂商也可??受惠，能否加入的关键，则在其是否符合永续标准 |
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台湾PCB产业力求设备制造业转型升级 (2021.11.25)
藉由缩小体积优势，开创出更多应用需求商机同时，也逆推台湾电路板（PCB）产业上中游加工、设备制造厂商加速转型升级，甚至跨足半导体设备领域。 |
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绿色建筑发挥效益 台湾杜邦获颁国家企业环保奖 (2019.11.25)
杜邦电子与成像事业部宣布其竹南厂荣获行政院环境保护署颁发国家企业环保奖。
环保署自 1992 起持续表扬企业对於环境保护与企业社会责任所展现的努力，今年是第一年设立国家企业环保奖 |
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杜邦扩大上海研发中心规模 为客户提供化学机械平坦化支援 (2018.11.04)
杜邦电子与成像事业部宣布，扩大中国上海研发中心（China Technical Center, CTC）的实验室规模，以便为客户在半导体制造领域使用其化学机械平坦化（Chemical Mechanical Planarization, CMP）产品提供支援 |
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陶氏电子扩大竹南CMP技术中心 化学机械研磨垫产能大增 (2018.03.26)
陶氏电子材料，为陶氏杜邦特种产品事业部旗下的事业单位，3/26於竹南的亚洲 CMP (化学机械平坦化)制造和技术中心举行第四期扩厂的剪彩典礼。新厂房将扩大化学机械研磨垫的生产业务 |
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先进节点化学机械研磨液优化 (2017.01.12)
在先进的前段制程中将有不同材料层的组合（如氧化物、氮化物和多晶矽），各材料都需要研磨，各层分别要求不同的研磨率、选择比和严格的制程控制。多样化需求需要新的研磨液配方 |
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陶氏发表OPTIPLAN先进半导体制造化学机械研磨液平台 (2016.08.02)
陶氏电子材料是陶氏化学公司（DOW）的一个事业部，推出 OPTIPLANE化学机械研磨液 (CMP) 平台。 OPTIPLANE 研磨液系列的开发是为了满足客户对先进半导体研磨液的需求：能以有竞争力的成本，符合减少缺陷的要求和更严格的规格，适合用来制造新一代先进半导体装置 |
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陶氏电子亚洲材料动土 在台扩建深化伙伴关系 (2016.06.22)
陶氏化学公司(简称陶氏) 旗下的陶氏电子材料事业部，在其亚洲CMP制造与技术中心举行扩建动土典礼，完工后将大幅提升化学机械研磨(chemical mechanical planarization; CMP)材料的产能 |
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摩尔定律声声唤 CMP制程再精进 (2011.09.22)
半导体组件若要追上摩尔定律速度，微缩制程就需要更新的技术相挺。化学材料与电子产品间的关系密不可分，美商陶氏化学旗下分公司陶氏电子材料的最新制程：化学机械研磨 (CMP)铜制程，主诉求无研磨粒、自停 (self-stopping) 机制以及研磨垫，提供CMP铜制程高效能、低成本的解决方案 |
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陶氏电子材料推出化学机械研磨垫 (2009.10.07)
陶氏电子材料（Dow Electronic Materials）近日推出了OPTIVISIONTM 4540化学机械研磨垫，该产品的设计目标是在研磨垫的使用寿命内实现低缺陷率和低拥有成本。这款新研磨垫使用了独特的聚合物化学组成和细孔结构，以达到使铜阻挡层研磨的缺陷率降至最低，并提供更高的介电层去除率 |
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罗门哈斯CMP表面沟槽设计拉动市场需求 (2008.09.15)
罗门哈斯电子材料（Rohm and Haas Electronic Materials）旗下的研磨技术事业部（CMP Technologies）宣布，其新型化学机械研磨垫表面沟槽设计能够减少缺陷和研磨液的用量，现已迅速得到全球各地市场的认可 |
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罗门哈斯扩建亚太制造厂 增加在台投资 (2008.08.01)
罗门哈斯电子材料（Rohm and Haas Electronic Materials）旗下的CMP Technologies事业部，宣布将扩大其台湾新竹亚太区研磨垫工厂的投资，以加快提高产能，满足亚洲半导体生产客户不断增长的需求 |
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罗门哈斯亚洲科技中心开幕 (2008.07.10)
罗门哈斯电子材料(Rohm and Haas Electronic Materials)CMP Technologies事业部宣布在台湾新竹的亚洲科技中心(ATC)正式开幕。ATC的成立使CMP Technologies事业部更密切地与以亚洲为基地的客户进行合作，并协助客户最有效地使用高阶 CMP制程与耗材，同时提供整个亚太地区的工程与技术支持 |
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罗门哈斯-亚太制造与技术中心落成记者会 (2006.11.23)
全球半导体产业之化学机械研磨技术领导与创新厂商--罗门哈斯电子材料公司CMP Technologies事业部，在苗栗竹南科学园区动土兴建的CMP Technologies亚太制造与技术中心即将落成启用，投入研磨垫生产制造的行列 |
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创新研磨垫功能降低制程缺陷率和成本 (2006.10.31)
罗门哈斯电子材料公司（Rohm And Haas）是成立于1909年的全球特殊材料领导供货商，全球拥有1万7000名员工，2005年并达到80亿美元的年销售额。其技术遍及各种市场领域，包括建筑及营造业、电子产品及计算机、各项硬件及通讯设备、封装、家用及个人护理产品、汽车、纸业、零售食品及超级市场、大型商业中心，以及医疗领域 |
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创新研磨垫功能降低制程缺陷率和成本 (2006.10.30)
罗门哈斯电子材料公司（Rohm And Haas）是成立于1909年的全球特殊材料领导供应商，全球拥有1万7000名员工，2005年并达到80亿美元的年销售额。其技术遍及各种市场领域，包括建筑及营造业、电子产品及电脑、各项硬体及通讯设备、封装、家用及个人护理产品、汽车、纸业、零售食品及超级市场、大型商业中心，以及医疗领域 |
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newsTaiwan 2006记者会 (2006.09.05)
罗门哈斯电子材料公司CMP研磨技术部门将宣布推出完整的研磨垫解决方案，其中包括VisionPad研磨垫系列的多款新产品和全新的IC1000AT系列研磨垫。新的VisionPads和IC1000 AT系列是罗门哈斯历来最重要的研磨垫产品，同时也展现该公司致力协助客户达到新兴技术和现有技术严苛要求的承诺 |
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罗门哈斯亚太制造与技术中心于竹南正式动土 (2005.12.06)
半导体产业化学机械研磨（CMP）技术领导者和创新厂商罗门哈斯电子材料（Rohm and Haas Electronic Materials）CMP Technologies事业处，正式为其设于竹南科学园区的亚太制造与技术中心举行动土典礼 |
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CMP亚太制造中心动土典礼 (2005.11.22)
看好台湾十二吋晶圆厂群聚效应显著，半导体化学机械研磨（CMP）大厂--罗门哈斯电子材料公司（Rohm & Hass）旗下CMP technologies，启动亚太制造技术中心计划，将在新竹科学园区的卫星园区竹南园区，兴建研磨垫片制造厂和技术中心，预计2007年第一季量产，除将支持台湾及亚太地区十二吋厂需求外，最高技术也可支持至六五奈米制程 |
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Semicon Taiwan媒体会外展 (2005.09.06)
一年一度的Semicon Taiwan展又将来临，为让各位媒体朋友快速掌握参展厂商信息，美国专注半导体产业之公关公司--Loomis Group将协助其客户于台北时间9月12日假凯悦饭店二楼筵客厅进行媒体会外展 |
