湿蚀刻制程降低TSV成本 更易实现3D IC (2015.10.22) TSV(矽穿孔)技术在3DIC中,可谓扮演相当吃重的角色,由于摩尔定律的关系,半导体制程的不断突破,晶片业者不断提升电晶体密度,同时又面临晶片尺寸极为有限的情况下,水平面积毕竟还是有其极限,所以半导体业者们才从垂直方向下手,以整合更多的电晶体,进一步提升晶片整体效能
Veeco推出EPIK700 MOCVD系统 加速固态照明普及 (2014.09.09) Veeco(威科)今天宣布推出TurboDisc EPIK700氮化镓(GaN)有机金属化学气相沉积(Metal Organic Chemical Vapor Deposition;MOCVD)系统,以低运作成本结合业界最高生产效率和优异的良率,有效降低LED制造成本,带动一般照明应用