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CTIMES / 東京應用
科技
典故		 只有互助合作才能双赢——从USB2.0沿革谈起

USB的沿革历史充满曲折，其中各大厂商从本位主义的相互对抗，到尝尽深刻教训后的Wintel合作，能否给予后进有意「彼可取而代之」者一些深思与反省？
IBM与日本东京应用化学合作开发高效太阳能技术 (2008.06.17)
外电消息报导，IBM日前与日本半导体加工厂东京应用化学(TOK)共同宣布，将合作开发高转换率的太阳能技术，IBM将提供电池制造技术，而TOK则提供半导体及LCD面板镀膜的技术，以减低制造清洁能源的成本
Dow Corning硅晶注入式双层光阻应用于内存 (2007.12.10)
材料、应用技术及服务的综合供货商Dow Corning与东京应用化学（Tokyo Ohka Kogyo）宣布，两家公司合作开发的新型双层光阻已获得一家DRAM芯片制造商采用，将首度用来量产内存芯片

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