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单元二：高效率(橘或黄光)OLED组件结构设计、量测与实作 (2012.07.05)
课程介绍
实验室实际操作课程，限额20人，名额有限，请速报名！！
本课程将深入浅出剖析OLED可侵入性现有产业技术之特质，介绍发光组件效率的理论上限以及高效率OLED的设计原理，而从OLED特具的侵入性优势，可以了解此一技术未来的特色产品、市场方向；对高效率OLED设计的了解，可以掌握发展OLED产业的关键所在 |
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单元一：AMOLED关键设备与制程技术开发 (2012.06.21)
课程介绍
目前全球AMOLED面板供不应求，小尺寸AMOLED已成功在智能手机站稳市场，韩国Samsung Mobile Display借由AMOLED在智能手机产品差异化，让Samsung智能手机一度领先Apple iPhone市占率 |
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原子层沉积氧化铝为表面钝化的高效率多晶硅太阳能电池-原子层沉积氧化铝为表面钝化的高效率多晶硅太阳能电池 (2011.07.15)
原子层沉积氧化铝为表面钝化的高效率多晶硅太阳能电池 |
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原子沉积再突破 (2009.03.12)
半导体组件微小化，现行的制程技术与材料皆面临极大的挑战。传统的PVD与CVD镀膜也难以满足在32nm以下的制程需求，而新兴的原子层沈积(ALD)技术因其镀膜厚度达原子级便渐成显学 |
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ASM和SAFC签订认证制造厂商与合作协议 (2009.01.16)
ASM International N.V.和 Sigma-Aldrich子公司SAFC旗下的SAFC Hitech宣布针对进阶超介电常数绝缘层(advanced Ultra High-k insulators)之特定原子层沉积(ALD)原料签订认证制造厂商与合作协议。 该协议提供化学原料之认证标准、特定ASM ALD 专利之授权许可，以及针对这些化学原料的营销与进阶开发合作关系 |
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IBM研发出26GHz的石墨烯晶体管 (2008.12.23)
外电消息报导，IBM日前宣布，研发出一款全世界速度最快的石墨烯(graphene)场效晶体管(FET)，运作的频率高达26GHz。而未来透过碳元素更高的电子迁移率，该材料有望超越硅的物理极限，达到100GHz以上，并迈入兆赫领域 |
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Intermolecular与尔必达合作研发次世代内存技术 (2008.08.19)
Intermolecular与尔必达宣布了一项新的合作发展计划（ CDP）和授权协议，以加速尔必达次世代IC新材料与制程技术的发展。这项合作发展计划将采用Intermolecular物理气相沉积（ PVD）与原子层沉积（ ALD ）的工作流程和应用方案 |
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AVIZA与茂硅电子宣布签订共同开发计划 (2007.09.13)
Aviza Technology宣布与茂硅电子签订共同开发计划(JDP)。部分合作案内容为，Aviza和茂硅电子将共同开发应用在下一代闪存的原子层沉积层(ALD)材料。
根据合作协议的内容，Aviza将会提供开发先进原子层沉积材料必要的硬设备 |
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原子层沉积技术于45奈米世代将成主流 (2006.10.13)
专注于高温热制程处理系统及原子层沉积系统的半导体设备厂商Aviza，已经完成整并另一厂商Trikon，在半导体前后段制程技术领域，可以提供更完整的产品线，同时随着DRAM与Flash等内存产品市场规模的提升，将进一步扩大产品的出货量，尤其是在日渐成为全球制造中心的亚太地区市场 |
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以全球性售后服务网满足客户需求 (2004.10.13)
千里迢迢来台参加Semicon Taiwan 2004展览的半导体热处理与原子层沉积（atomic layer deposition；ALD）技术供货商Aviza Technology（暐贳科技），虽然才刚满一岁，在全球各大半导体工厂里运作的机组却已有2100多部 |
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以全球性售后服务网满足客户需求 (2004.10.05)
千里迢迢来台参加Semicon Taiwan 2004展览的半导体热处理与原子层沉积（atomic layer deposition；ALD）技术供应商Aviza Technology（暐贳科技），虽然才刚满一岁，在全球各大半导体工厂里运作的机组却已有2100多部 |
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KLA-Tencor推出MetriX 100 (2003.10.06)
KLA-Tencor 6日推出推出MetriX 100，是一套针对产品晶圆上薄膜的成份与厚度提供独立的量测功能。在各种IC上，薄膜的成份和薄膜的厚度都会影响IC的功能与可靠度，MetriX 100具备量测这两种参数的能力，提供90奈米环境中生产在线式监测及开发65奈米以下的制程 |
