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CTIMES / CTIMES零組件雜誌 / 第154期2004年8月號
挑戰摩爾定律極限
前進半導體先進製程──
全球奈米電子技術現況與趨勢探討
為成為下一世代的市場贏家，奈米級先進製程已經成為全球各大半導體產商積極投入之研究領域，而隨著製程不斷朝向65奈米、45奈米及32奈米以下尺寸推進，所面臨的技術挑戰也更加艱難。本文將為讀者深入剖析目前奈米級先進製程之主要趨勢與全球廠商發展現況。
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半導體製程演進重要推手──
奈米世代微影技術之原理及應用
微影技術在半導體製程中一直被認為是最重要的步驟，包括一直被廣泛應用在定義圖案的光學微影以及被應用在光罩製作上的電子束微影，而未來進入奈米時代之後，微影技術也面臨許多更新的挑戰，本文將藉由簡介先進微影技術之能力與限制，為讀者剖析目前主流微影術技術之應用與發展趨勢。
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從低價代工到專業先進製程供應者──
台灣IC製造產業的下一步...
半導體製造是台灣引以為傲的專長之一，無論是製程水準或是市場佔有率，皆在國際之間具備龍頭地位；而半導體製造業的成功要件並非只是龐大的產能或雄厚資本，優秀的人才與堅強的技術實力，更是其中的關鍵所在；本文將由產業界與學術界兩個面向，帶領讀者一窺國內半導體製造的發展趨勢與挑戰。
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| 趨勢對談 |
| 掌握消費特性 決勝DC市場 |
| Dan Vivoli認為，唯有深入分析並掌握市場上數位產品主流使用群之消費特性，才能研發更具競爭力的產品，並在生活數位化、數位生活化的DC市場趨勢裏事半功倍、日進千里。 |
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