Mentor Graphics將於2006年8年15日(周二)於新竹國賓大飯店舉行一場盛大的EDA技術論壇，為IC設計工程師提供了與世界一流EDA業界專家進行面對面交流的機會。

Mentor Graphics CEO & Chairman, Mr. Walden C. Rhines將出席為您揭示EDA市場的最新發展趨勢，並說明在半導體製程技術朝向65nm發展的趨勢下，EDA設計工具的嶄新變革，進而帶動EDA產業的快速發展。

此外，台積電設計服務部門副總監吳國雄博士也應邀出席說明可製造設計 (DFM) 流程技術對半導體產業中產品開發時程與良率提昇等競爭力與獲利力的關鍵性影響因素；奈米技術使EDA產業開發新技術，讓設計人員在設計、驗證、和測試程序的每一個階段都能將製造列入考慮。Mentor Graphics與台積電密切合作，提供整合式DFM，俾使IC設計工程師設計出效能優異、可靠度佳的IC產品。

EDA技術論壇包含技術研討和實機演練，範圍涵蓋電子系統層級設計的各種實際問題、功能驗證、類比及混合訊號設計與驗證、可製造設計 (DFM) 和系統設計。此外，廠商展覽攤位將由參與這項盛會的廠商展出最新的設計技術和工具。

誠摯邀請各位媒體朋友前來瞭解Mentor Graphics最新的產品以及現場的攤位展示！