<
帳號：
密碼：

討論新聞主題﹕EV Group推出HERCULES NIL Track System加速奈米壓印微影技術導入高量產階段

新聞 提要
完全整合的UV奈米壓印微影(UV-NIL) Track System結合EVG微影與光阻製程專長；應用領域涵蓋光子、微機電和奈米機電元件等 微機電、奈米技術、半導體晶圓接合暨微影技術設備商EV Group（EVG）推出HERCULES NIL奈米壓印微影整合系統 （track system）。這個完全整合的Track System結合晶圓清洗、光阻塗佈、烘烤的前處理步驟和EVG獨有的Smart NIL大面積奈米壓印微影（NIL）製程在單一平台上，HERCULES NIL 系統擁有高產能與產量，並提供適用於新興的光子元件高量產（HVM）完整的與專屬的UV-NIL解決方案。 該系統可壓印出從數十奈米到幾微米的結構，以改變或提升表面或元件本身的光學反應，例如抗反射層（anti-reflective layer）、彩色和偏光濾光片、導光板、用於發光二極體（LED）製程的圖案化藍寶石基板(patterned sapphire substrate)等

發表新主題
主題：
文章內容：
  確認碼:  
  一般討論區
一般討論區
新聞報導論壇
活動消息論壇
專欄評析
零組件科技論壇
產業新品中心
  應用論壇區
文章論述論壇
軟體應用論壇
產品應用論壇
Microchip數位電源討論區─贏取大獎
  技術應用區
電子技術類：
電腦科技類：
網際科技類：
軟體資源類：
 
刊登廣告 ｜ 新聞信箱 ｜ 讀者信箱 ｜ 著作權聲明 ｜ 隱私權聲明 ｜ 本站介紹
︱ Copyright ©1999-2024 遠播資訊股份有限公司版權所有 Powered by O3
地址:台北市中山北路三段29號11樓 / 電話 (02)2585-5526 / E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw