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跨領域設計概念整合 新離子植入技術誕生 (2006.09.25)
Epion Corporation為氣體團簇離子束（Gas Cluster lon Beam；GCIB）設備開發商，日前與代理商帆宣系統科技合作，推廣透過GCIB新的製程技術而開發出來的離子植入儀器－nFusion，功能在於使矽晶圓的摻雜過程（Doping）中
新植入設備誕生 Epion來台推廣GCIB (2006.09.11)
Epion Corporation為氣體團簇離子束（Gas Cluster lon Beam；GCIB）設備開發商，日前與代理商帆宣系統科技合作，推廣透過GCIB新的製程技術而開發出來的離子植入儀器－nFusion，功能在於使矽晶圓的摻雜過程（Doping）中
帆宣代理Epion多功能原子尺度製程設備 (2005.09.12)
台灣半導體產業代理商帆宣系統科技宣佈與美國Epion結盟，將代理Epion nFusion Doping System植入設備以及Ultra-Trimmer Corrective微蝕刻設備。Epion是GCIB氣體集合離子束(gas cluster ion beam)設備開發者，主要用於微電子及相關產業製造


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