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田中貴金屬確立液體釕前驅物2段成膜製程 助10nm以下微縮 (2022.06.24)
田中貴金屬工業株式會社宣布,確立液體釕(Ru)前驅物「TRuST」的2段成膜製程。「TRuST」是前驅物,對氧和氫兩者具備良好的反應性,能夠形成高純度的釕膜。本製程是一種2段ALD成膜製程(ALD=Atomic Layer Deposition),先利用氫成膜形成較薄的防氧化膜,再以氧成膜實現高品質的釕膜
新世代觸控面板透明導電膜技術論壇 (2011.05.12)
觸控面板的應用愈來愈普及,ITO透明導電玻璃及薄膜的重要性也跟著水漲船高。ITO是以錫嵌入氧化銦(Tin-doped Indium Oxide)製成,其重要原料銦產量稀少,價格隨市場需求增大而日漸升高;在製造上由於需在真空環境下用濺鍍法(Sputtering)來製作,導致生產設備昂貴


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