帳號:
密碼:
相關物件共 2
Toshiba Materials投資新生產設施 提高氮化矽球產量 (2023.07.26)
Toshiba Materials公司今(26)日宣佈,對第二座生產設施進行重大投資,如此將顯著提高氮化矽球的產能。該工廠將建置在Toshiba Materials位於日本九州北部的大分廠區(Oita Operations),這項總投資70億日圓(約計為5000萬美元)的專案,可望於2026年1月投產
東芝材料投資50億日圓提高氮化矽球產能 (2022.07.21)
東芝材料公司(Toshiba Materials)今(21)日宣布,對興建的氮化矽球新生產設施進行重大投資,該設施與日本橫濱總部位於同一地點。該專案預算超過50億日圓(約合3,800萬美元),預計將於2023年11月投產


  十大熱門新聞
1 Basler全新小型高速線掃描相機適合主流應用
2 意法半導體整合化高壓功率級評估板 讓馬達驅動器更小且性能更強
3 Pilz開放式模組化工業電腦適用於自動化及傳動技術
4 SKF與DMG MORI合作開發SKF INSIGHT超精密軸承系統
5 宜鼎推出DDR5 6400記憶體 同級最大64GB容量及全新CKD元件
6 宜鼎E1.S固態硬碟因應邊緣伺服器應用 補足邊緣AI市場斷層
7 SCIVAX與Shin-Etsu Chemical聯合開發全球最小的3D感測光源裝置
8 Microchip支援NIDIA Holoscan感測器處理平台加速即時邊緣AI部署
9 英飛凌CoolSiC蕭特基二極體2000 V直流母線電壓最高可達1500 VDC
10 瑞薩全新RA8 MCU系列將Arm Cortex-M85處理器高效引入成本敏感應用

AD

刊登廣告 新聞信箱 讀者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 遠播資訊股份有限公司版權所有 Powered by O3
地址:台北市中山北路三段29號11樓 / 電話 (02)2585-5526 / E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw