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CTIMES / 東京應用
科技
典故
第一顆電晶體(Transistor)的由來

第二次世界大戰末期,貝爾實驗室開始一項研究計畫,目標是研發出一種體積更小、功能更強大、更快速且可靠的裝置來取代真空管。1947年12月23日,由貝爾實驗室研發的電晶體取代了真空管,優點是體積更小、更可靠、且成本低廉,不僅孕育了今日遍及全球的電子半導體產業,同時也促成電訊電腦業、醫學、太空探測等領域產生戲劇性的改變。
IBM與日本東京應用化學合作開發高效太陽能技術 (2008.06.17)
外電消息報導,IBM日前與日本半導體加工廠東京應用化學(TOK)共同宣佈,將合作開發高轉換率的太陽能技術,IBM將提供電池製造技術,而TOK則提供半導體及LCD面板鍍膜的技術,以減低製造清潔能源的成本
Dow Corning矽晶注入式雙層光阻應用於記憶體 (2007.12.10)
材料、應用技術及服務的綜合供應商Dow Corning與東京應用化學(Tokyo Ohka Kogyo)宣佈,兩家公司合作開發的新型雙層光阻已獲得一家DRAM晶片製造商採用,將首度用來量產記憶體晶片

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