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討論新聞主題﹕KLA-Tencor推出5D圖案成型控制解決方案的關鍵系統

新聞 提要
KLA-Tencor 公司今天宣佈，推出WaferSight PWG 已圖案晶圓幾何形狀測量系統、LMS IPRO6 光罩圖案位置測量系統和 K-T Analyzer 9.0 先進數據分析系統。這三種新產品支援 KLA-Tencor 獨特的 5D 圖案成型控制解決方案，此方案著重於解決圖案成型製程控制上的五個主要問題 — 元件結構的三維幾何尺寸、時間效率和設備效率。5D 圖案成型控制解決方案主要透?對微影模組製程和非微影模組製程的量化、優化、和監控，來獲取最佳的圖案成型結果。 透?將以上設備測量結果與智慧回饋及前饋製程控制回路相結合，此項解決方案能夠協助晶片製造商利用現有製程裝置以更快及更有成效的方式來提升多重圖案成型技術、隔板周期分割及其他先進圖案成型技術

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