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imec採用High-NA EUV技術 展示邏輯與DRAM架構 (2024.08.11)
比利時微電子研究中心（imec），在荷蘭費爾德霍溫與艾司摩爾（ASML）合作建立的高數值孔徑極紫外光（high-NA EUV）微影實驗室中，利用數值孔徑0.55的極紫外光曝光機，發表了曝光後的圖形化元件結構 |
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ASML與imec成立High-NA EUV微影實驗室 (2024.06.05)
比利時微電子研究中心（imec）與艾司摩爾（ASML）共同宣布，雙方於荷蘭費爾德霍溫合作開設的高數值孔徑極紫外光（high-NA EUV）微影實驗室正式啟用，為尖端的邏輯、記憶體晶片商以及先進的材料、設備商提供第一部高數值孔徑（high-NA）極紫外光（EUV）曝光機原型TWINSCAN EXE:5000以及相關的製程和量測工具 |
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EV Group推出次世代200毫米光阻製程平台 產出高出80% (2022.11.10)
晶圓接合暨微影技術設備商EV Group（EVG）宣布，發表次世代200毫米版本的EVG150自動化光阻製程系統，擴大光學微影領域的優勢。重新設計的EVG150平台包括先進功能與強化項目，與前一代平台相比，可提供高出80%的製程產出、通用性，以及減少近50%的設備佔地面積 |
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自動化業者支援產業全方位減碳 (2022.09.24)
甫於今年8月底落幕的「Intelligent Asia亞洲工業4.0暨智慧製造系列展」，不僅再度集結了自動化、機器人、模具、3D列印、物流、冷鏈科技、雷射、流體傳動和數位化機械要素共9大主題區，展示從製造端到應用端所需設備硬、軟體和系統解決方案，還能迎合企業全方位節能減碳的需求 |
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士林電機從智慧製造到充電樁 提供全方位節能減碳方案 (2022.09.16)
展望2050淨零碳排需求商機，在今年台北國際自動化工業大展期間，除了可見各家機電自動化大廠皆紛紛推出抑制排碳領域的相關產品。台灣的指標大廠士林電機也利用自主掌握的研發設計、製造等優勢，提供全方位解決方案 |
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冠橙科技光罩基板具有清洗、濺鍍和光阻塗佈技術特色 (2022.01.26)
隨著電子產品趨於輕薄短小，加工尺寸也相應的微小化，各種創新加工技術和各式各樣的微細製造模具也因應而生。由早期的印刷雕刻模具到半導體的微影曝光光罩，以及穿戴裝置產業需要更小的圖案、更大的尺寸及軟性模具等 |
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EV Group推出HERCULES NIL Track System加速奈米壓印微影技術導入高量產階段 (2015.09.11)
完全整合的UV奈米壓印微影(UV-NIL) Track System結合EVG微影與光阻製程專長；應用領域涵蓋光子、微機電和奈米機電元件等
微機電、奈米技術、半導體晶圓接合暨微影技術設備商EV Group（EVG）推出HERCULES NIL奈米壓印微影整合系統 （track system） |
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半導體投射電容面板製程 富創得力拼1吋1美元 (2010.02.03)
在Windows 7和iPad話題效應的帶動之下，多點觸控面板正成為眾所矚目的焦點。台廠富創得（FORTREND）以獨特的半導體投射電容觸控面板製程，不僅能有效提高良率達95～98％，並且大幅降低製程成本 |
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細說TFT-LCD液晶顯示技術 (2006.10.04)
自從第一台液晶顯示器問世以來，液晶顯示技術挾其低成本與輕便性等優勢，淘汰CRT顯示技術，全面攻佔資訊顯示市場。目前TFT-LCD顯示技術已經成熟，未來肯定將在更多應用領域大放光彩 |
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多孔性低介電常數材料的非損害性清洗製程 (2004.12.04)
本文所探討的晶圓表面處理技術，將介紹如何在批次型噴霧清洗設備的協助下，利用飽和臭氧含量的去離子水來處理化學氣相沉積的有機矽玻璃低介電常數薄膜，並且分析所得到的光阻去除結果；這項製程不會導致低介電常數性質或微距的改變，此外也證明利用腐蝕抑制劑，就能降低臭氧製程對銅腐蝕效應 |
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長興加碼投資9.5億擴充電子材料產能 (2004.08.05)
長興化工日前決定加碼投資9.5億元於大發工業區內擴充產能，並另購廠地，增建全新廠房及設備，從事LCD相關光學膜的生產。
長興化工於今年成立光學膜專案組，串連、整合原有的合成樹脂、功能塗料、感光材料、紫外線硬化、奈米材料、精密塗裝、無塵室管理等等技能；並在面板廠、背光模廠、裁切廠的指導、協助、配合之下 |
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彩色濾光片應用於LCD TV之技術發展與瓶頸 (2002.11.05)
由於具備質量輕、體積小、省能源的特性，TFT LCD廣泛應用於包括手機、PDA、TV等電子產品領域，而其中又以LCD TV的未來發展趨勢最受市場關注；本文即針對彩色濾光片應用於LCD TV之相關產品，其規格需求以及技術現況進一步說明與探討 |
