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imec采用High-NA EUV技术 展示逻辑与DRAM架构 (2024.08.11)
比利时微电子研究中心（imec），在荷兰费尔德霍温与艾司摩尔（ASML）合作建立的高数值孔径极紫外光（high-NA EUV）微影实验室中，利用数值孔径0.55的极紫外光曝光机，发表了曝光後的图形化元件结构 |
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ASML与imec成立High-NA EUV微影实验室 (2024.06.05)
比利时微电子研究中心（imec）与艾司摩尔（ASML）共同宣布，双方於荷兰费尔德霍温合作开设的高数值孔径极紫外光（high-NA EUV）微影实验室正式启用，为尖端的逻辑、记忆体晶片商以及先进的材料、设备商提供第一部高数值孔径（high-NA）极紫外光（EUV）曝光机原型TWINSCAN EXE:5000以及相关的制程和量测工具 |
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EV Group推出次世代200毫米EVG150光阻制程平台 (2022.11.10)
晶圆接合暨微影技术设备商EV Group（EVG）宣布，发表次世代200毫米版本的EVG150自动化光阻制程系统，扩大光学微影领域的优势。重新设计的EVG150平台包括先进功能与强化项目，与前一代平台相比，可提供高出80%的制程产出、通用性，以及减少近50%的设备占地面积 |
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自动化业者支援产业全方位减碳 (2022.09.24)
甫於今年8月底落幕的「Intelligent Asia亚洲工业4.0暨智慧制造系列展」，不仅再度集结了自动化、机器人、模具、3D列印、物流、冷链科技、雷射、流体传动和数位化机械要素共9大主题区，展示从制造端到应用端所需设备硬、软体和系统解决方案，还能迎合企业全方位节能减碳的需求 |
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士林电机展出从智慧制造到充电桩 提供全方位节能减碳方案 (2022.09.16)
展??2050净零碳排需求商机，在今年台北国际自动化工业大展期间，除了可见各家机电自动化大厂皆纷纷推出抑制排碳领域的相关产品。台湾的指标大厂士林电机也利用自主掌握的研发设计、制造等优势，於南港一馆L410摊位展出智慧制造到电动车相关产品，提供全方位解决方案 |
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冠橙科技光罩基板具有清洗、溅镀和光阻涂布技术特色 (2022.01.26)
随着电子产品趋於轻薄短小，加工尺寸也相应的微小化，各种创新加工技术和各式各样的微细制造模具也因应而生。由早期的印刷雕刻模具到半导体的微影曝光光罩，以及穿戴装置产业需要更小的图案、更大的尺寸及软性模具等 |
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EV Group推出HERCULES NIL Track System加速奈米压印微影技术导入高量产阶段 (2015.09.11)
完全整合的UV奈米压印微影(UV-NIL) Track System结合EVG微影与光阻制程专长；应用领域涵盖光子、微机电和奈米机电元件等
微机电、奈米技术、半导体晶圆接合暨微影技术设备商EV Group（EVG）推出HERCULES NIL奈米压印微影整合系统（track system） |
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半导体投射电容面板制程 富创得力拼1吋1美元 (2010.02.03)
在Windows 7和iPad话题效应的带动之下，多点触控面板正成为众所瞩目的焦点。台厂富创得（FORTREND）以独特的半导体投射电容触控面板制程，不仅能有效提高良率达95～98％，并且大幅降低制程成本 |
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细说TFT-LCD液晶显示技术 (2006.10.04)
自从第一台液晶显示器问世以来，液晶显示技术挟其低成本与轻便性等优势，淘汰CRT显示技术，全面攻占资讯显示市场。目前TFT-LCD显示技术已经成熟，未来肯定将在更多应用领域大放光彩 |
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多孔性低介电常数材料的非损害性清洗制程 (2004.12.04)
本文所探讨的晶圆表面处理技术，将介绍如何在批次型喷雾清洗设备的协助下，利用饱和臭氧含量的去离子水来处理化学气相沉积的有机矽玻璃低介电常数薄膜，并且分析所得到的光阻去除结果；这项制程不会导致低介电常数性质或微距的改变，此外也证明利用腐蚀抑制剂，就能降低臭氧制程对铜腐蚀效应 |
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长兴加码投资9.5亿扩充电子材料产能 (2004.08.05)
长兴化工日前决定加码投资9.5亿元于大发工业区内扩充产能，并另购厂地，增建全新厂房及设备，从事LCD相关光学膜的生产。
长兴化工于今年成立光学膜项目组，串连、整合原有的合成树脂、功能涂料、感光材料、紫外线硬化、奈米材料、精密涂装、无尘室管理等等技能；并在面板厂、背光模厂、裁切厂的指导、协助、配合之下 |
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彩色滤光片应用于LCD TV之技术发展与瓶颈 (2002.11.05)
由于具备质量轻、体积小、省能源的特性，TFT LCD广泛应用于包括手机、PDA、TV等电子产品领域，而其中又以LCD TV的未来发展趋势最受市场关注；本文即针对彩色滤光片应用于LCD TV之相关产品，其规格需求以及技术现况进一步说明与探讨 |
