 |
深度整合模擬科技 Siemens EDA用數位分身完整實現晶片效能 (2023.03.30)
西門子EDA（Siemens EDA）今日在新竹舉行年度IC設計論壇，並邀請媒體進行聯訪，由西門子數位化工業軟體IC EDA執行副總裁Joseph Sawicki，與EDA亞太區技術總經理李立基和共同出席受訪 |
|
西門子收購 Avery Design Systems 續擴充IC驗證解決方案 (2022.11.14)
西門子數位化工業軟體今（14）日宣佈收購獨立於模擬的驗證IP供應商Avery Design Systems，將後者技術添加到西門子企業級驗證平台Xcelerator的產品組合中，藉以擴充其電子設計自動化（EDA）IC驗證產品套裝功能，讓客戶可以在模擬、硬體模擬和原型開發週期?，使用西門子驗證解決方案來優化產品的品質，並縮短上市時間 |
|
西門子收購Avatar 擴大EDA佈局和繞線版圖 (2020.07.23)
西門子近期簽署協議，收購總部位於加州聖塔拉拉的Avatar Integrated Systems公司（Avatar）。Avatar是一家專精於為晶片設計提供佈局和繞線（place and route）軟體的領先開發業者，能夠協助工程師以更少的資源最佳化複雜晶片的功耗、效能和面積（PPA） |
 |
3奈米製程將是晶圓代工廠的顛峰之戰 (2019.10.01)
有能力將半製程推進到7奈米以下的業者，僅剩三星電子和台積電，誰能在3奈米技術中勝出，誰就有希望取得絕對的市場優勢。 |
|
強調系統導向 Mentor技術論壇推IC設計新思維 (2019.09.03)
Mentor今日在新竹舉辦2019年年度技術論壇。在AI與5G等大趨勢的推動下，今年的論壇定調在系統導向的IC設計，著重由系統端需求所發起的晶片設計發展，尤其是特定應用（domain-specific）優化為目標的晶片設計 |
|
Mentor與GLOBALFOUNDRIES合作開發適用於22FDX平臺的設計參考流程 (2015.11.13)
Mentor Graphics（明導）宣布與 GLOBALFOUNDRIES合作，認證Mentor RTL到GDS平臺（包括 RealTime Designer物理RTL合成解決方案和Olympus-SoC佈局佈線系統）能夠完全適用於當前版本的 GLOBALFOUNDRIES 22FDX平臺設計參考流程 |
|
Mentor Graphics獲得TSMC 10nm FinFET 製程技術認證 (2015.09.21)
Mentor Graphics（明導）公司宣佈，Calibre nmPlatform已通過TSMC 10nm FinFET V0.9製程認證。此外，Mentor Analog FastSPICE電路驗證平臺已完成了電路級和元件級認證，Olympus-SoC數位設計平臺正在進行提升，以幫助設計工程師利用TSMC 10nm FinFET技術更有效地驗證和優化其設計 |
|
Intel晶圓代工廠擴展服務利用Calibre PERC做可靠性檢查 (2015.07.07)
（美國俄勒岡州訊）明導（Mentor Graphics）公司宣佈，Intel 晶圓代工廠擴展其14奈米產品服務給其客戶，包含利用 Calibre PERC平臺做可靠性驗證。Intel和Mentor Graphics聯合開發有助於提升IC可靠性的首套電氣規則檢查方案，未來還將繼續合作開發，為Intel 14奈米製程的客戶提供更多的檢查類型 |
|
台積電認證Mentor Graphics軟體可應用於其10nm FinFET技術早期設計開發 (2015.04.20)
Mentor Graphics（明導）宣佈：台積電（TSMC）和Mentor Graphics已經達到在 10nm EDA認證合作的第一個里程碑。 Calibre實體驗證和可製造性設計（DFM）平臺以及 Analog FastSPICE（AFS）電路驗證平臺（包括AFS Mega）已由台積電依據最新版本的10nm設計規則和 SPICE模型認證 |
 |
明導Calibre PERC產品 可防護嚴重電子電路失效 (2010.01.19)
明導國際（Mentor Graphics）宣佈，IC設計用的最完整可程式電子規則檢查工具（PERC）─Calibre PERC產品，已獲安森美半導體（ON Semiconductor）和智原科技（Faraday Technology）採用 |
|
立足矽谷 放眼亞洲(下) (2007.01.26)
全球資訊科技產業發展重地「矽谷」，位在北加州，其地理涵蓋範圍北至San Mateo、西至Santa Cruz Mountains、東至San Francisco Bay、而南至Morgan Hill，是一個投資公司和新興創業家十分熱衷的地區 |
|
Mentor Graphics加強Calibre RET (2003.03.06)
明導國際 (Mentor Graphics) 日前宣佈，該公司已大幅加強CalibreO系列的解析度強化技術(RET)工具，確保Calibre解析度強化技術的建模精準度 (modeling accuracy) 有效滿足未來三個技術節點需求 |
|
Mentor Graphics Calibre DRC 支援聯電90奈米製程 (2003.03.05)
明導國際 (Mentor Graphics) 於2月19日宣佈，聯電已開始提供能夠完整支援90奈米製程的CalibreR DRC (設計規則檢查) 規則檔案，它們可充份發揮Calibre最先進功能；自從1998年開始，Calibre就是聯電的實體驗證標準 |
|
Mentor Graphics Calibre Interactive工具獲意法半導體採用 (2002.10.11)
Mentor Graphics日前宣佈，意法半導體（STMicroelectronics）已決定採用Calibre Interactive工具來支援電路之小區塊和功能區塊（cell and block）的實體驗證，這表示意法半導體將把Calibre技術擴大應用至整個設計流程，從電路之小區塊／功能區塊和全晶片的驗證開始，一直到最後的生產製造 |
|
Mentor Graphics Calibre DRC 支援TSMC 90奈米製程技術 (2002.06.04)
Mentor Graphics和台積電於5月28日共同宣佈，開始為台積電最先進的90奈米製程, Nexsys ,提供Calibre DRC實体驗証(設計規則檢查)。在台積電與Mentor Graphics工程團隊的密切合作下，Calibre產品獲得進一步加強 |
|
Mentor Graphics Calibre部門與IMEC合作 (2002.06.03)
Mentor Graphics於5月28日宣佈，Mentor Calibre部門已和IMEC達成一項合作協議，將共同發展次波長微影技術（subwavelength microlithography）。IMEC是歐洲最重要的獨立研究中心，研究領域涵蓋微電子、奈米技術、資訊和通信系統的設計方法和技術 |
|
日立選擇Mentor Graphics相位移光罩軟體 (2001.11.16)
Mentor Graphics日前宣佈，日立已決定採用Calibre PSMgate軟體與解析度強化技術，將它們做為0.13微米製程的標準工具，以便製造更精密準確的電路結構，進而將電晶體縮小到0.1微米以下 |
