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EDA竞赛开锣 益华严阵以待 (2006.07.20)
继新思（Synopsys）于民国93年9月在台湾成立研发中心后，益华（Cadence）也在总经理张郁礼带领下，预计将台湾研发中心人员扩充1倍以上，全力抢攻台湾EDA（Electronic Design Automation；EDA）客户群并开发新兴市场；有消息指出 |
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支持Fabless DFM设计 台积电推出设计参考7.0版 (2006.07.18)
台积电日前推出设计参考流程7.0版，相较于6.0版本，新版本强化了统计静态时序分析（Statistical Static Timing Analyzer；SSTA）功能，及新的耗电管理方法与可制程性设计（DFM）功能 |
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Mentor Calibre nmDRC工具 打破传统设计规则 (2006.07.11)
明导国际(Mentor Graphics)日前宣布推出Calibre nmDRC工具，也为传统的设计规则检查(DRC)作业带来新定义。这套工具大幅缩短总周期时间，还整合了关键区域分析及关键特征辨识等克服奈米时代生产良率挑战所需的多项重要功能 |
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益华计算机- EDA 101 你的第一堂EDA课 (2006.07.04)
妳知道你的电子产品里头就向组织完整的一座城市吗?
IC设计流程有哪些步骤吗?
和设计师谈话总是有听没有懂吗?
抽个空过来充充电吧! |
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EDA用户联盟DTC改选主席 (2006.06.16)
设计技术联盟（DTC）是由半导体业者与IC设计公司这些EDA用户所共同组合而成，目的在于对EDA技术评定与提出需求。日前进行主席改选，前任主席IBM技术与服务事业部业务开发总监兼技术长Dale Hoffman圆满卸任，由Intel EDA业务总监暨Si2董事会会长Rahul Goyal出任DTC新任主席，而Rahul Goyal的当选将带来了Si2(Silicon Integration Initiative)支持DTC |
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Mentor Graphics Calibre xRC 研讨会成果佳 (2006.05.18)
EDA电子自动化厂商─Mentor Graphics (明导国际)，于5月11日举办了一场 Calibre xRC 研讨会，共吸引了近200名半导体界精英参加。会中Mentor Graphics针对Calibre xRC这个萃取寄生参数 (parasitic extraction) 问题的突破性工具做了详细的说明，另外也回答了已使用Calibre xRC的工程师的众多疑问 |
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安捷伦开发3D电磁仿真软件 (2006.05.10)
安捷伦科技（Agilent Technologies）发表为RF与微波电路设计人员而开发的电磁设计系统（EMDS）。Agilent EMDS在同等价位的产品中拥有最高的效能，并能整合到安捷伦科技领先业界的RF与微波电路设计/仿真流程 |
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Aprio宣布加入ARM Connected Community (2006.05.02)
Aprio于5月1号宣布参加ARM Connected Community，该公司总裁兼执行长Mike Gianfagna表示:「加入ARM Connected Community可以帮助DFM〈可制造性导向设计〉发展，而且也能为ARM注入IP验证的制造信息 |
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Sun利用Mentor Graphics CDC解决方案 (2006.04.27)
明导国际 (Mentor Graphics)宣布太阳计算机 (Sun) 利用Mentor的0-In CDC (Clock-Domain Crossing) 技术设计出UltraSPARC T1处理器。这款日前刚发表的突破性处理器是内含8个核心并能同时支持32组线程的64位处理器设计，不但采用该公司专利的CoolThreads技术，还包含开放原始码的硬件和软件规格 |
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OA的普及化需与EDA工具结合 (2006.04.24)
根据EETimes网站报导，近期举行的第8届OpenAccess业界高层座谈会，日前从会议中传出，尽管目前实际采用OpenAccess开放源代码（OA）的情形有限，但是，芯片设计人员仍然对OpenAccess抱持着乐观的态度 |
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Anasifi开发出模拟DFM优化工具 (2006.04.21)
Anasift开发模拟IC设计软件的电子自动化设计工具，为模拟IC的EDA工具供货商。近日内，推出适用于模拟IC设计的测试版（Beta版）—Ampso-OADFM，视为DFM的优化工具。DFM为使设计人员所设计的芯片能够在良率可接受的范围内，正确无误地被制造出来 |
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以SystemVerilog语言提升EDA工具设计产能 (2006.04.14)
SystemVerilog目前已经渐渐成为设计与验证的主流语言，许多厂商在其产品设计中都采用这样的标准。目前全球估计已有超过150家厂商采用SystemVerilog，而许多先进设计与验证工程师也开始在standardization process中使用此种语言 |
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Mentor Graphics推出XtremeAR产品 (2006.04.13)
明导国际 (Mentor Graphics)推出专用来协助电子公司设计大型电路板的XtremeAR产品。XtremeAR是Mentor利用Xtreme专利设计技术开发的第二代产品，最多能让15颗处理器同时执行自动绕线，使得大型电路板的绕线时间从数天缩短为数小时 |
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Dimatix针对不同制程推出墨匣式喷墨打印系统 (2006.04.11)
商业与工业用喷墨产品供货商Dimatix，于台湾市场推出旗下的Dimatix 材料打印机（DMP），同时表示希玛科技将成为台湾区的销售暨服务代理商。DMP，为全球第一台低成本完整解决方案，能在任何类型的表面（包括塑料、金属片、硅与纸张），极精准地喷出各种用途的液体，诸如奈米粒子金属与有机材料 |
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AMD致力推动单板计算机产业研发创新运算技术 (2006.04.03)
AMD三日发表AMD GeodeTM LX EPIC参考设计工具(Reference Design Kit–RDK)。这款参考设计工具将可协助研发业者快速且有效率地开发各种低功耗、高效能的单板计算机(Single Board Computer–SBC)，并缩短产品的上市时程 |
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以SystemVerilog语言提升EDA工具设计产能 (2006.04.01)
SystemVerilog目前已经渐渐成为设计与验证的主流语言，许多厂商在其产品设计中都采用这样的标准。目前全球估计已有超过150家厂商采用SystemVerilog，而许多先进设计与验证工程师也开始在standardization process中使用此种语言 |
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Mentor支持65奈米制程Common Platform技术 (2006.03.31)
明导国际(Mentor Graphics)日前宣布其Calibre设计与制造平台的多款最佳工具已通过认证，现能为IBM/特许半导体/三星的65奈米制程Common Platform技术提供强大可靠的可制造设计(DFM)方法支持 |
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华莱DFM为西门子Bocholt厂达成卓越成效 (2006.03.30)
专为电子业提供软件解决方案的厂商－华莱科技 （Valor Computerized Systems）运用该公司的可制造性设计（Design For Manufacturing，DFM）解决方案，成功为西门子位于德国西部的波霍特厂（Bocholt） 达成提升成本管理及加速电路板产品布线设计的卓越成效 |
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Actel新款设计方案 简化真实世界嵌入式设计 (2006.03.08)
为了进一步简化嵌入式系统的设计，Actel公司宣布推出一款功能强大的单芯片设计方案M7AFS器件。 M7AFS是Actel屡次获奖的混合信号Fusion融合可编程系统芯片(PSC)具ARM7功能的版本 |
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凤凰科技OIL BIOS套装服务 宏碁率先导入 (2006.03.08)
计算机核心系统软件(Core System software,CSS)厂商美商凤凰科技(Phoenix Technologies)，8日发表全新OIL(OEM Identity Library)套装产品，以客制化及完整的BIOS功能组合，为OEM客户提供更高的产品研发弹性，协助客户加速产品上市时程，以创造市场竞争优势 |
