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科技
典故
第一顆電晶體(Transistor)的由來

第二次世界大戰末期,貝爾實驗室開始一項研究計畫,目標是研發出一種體積更小、功能更強大、更快速且可靠的裝置來取代真空管。1947年12月23日,由貝爾實驗室研發的電晶體取代了真空管,優點是體積更小、更可靠、且成本低廉,不僅孕育了今日遍及全球的電子半導體產業,同時也促成電訊電腦業、醫學、太空探測等領域產生戲劇性的改變。
全球半導體廠產能利用率連續第二季下滑 (2005.02.23)
國際半導體產能統計協會(SICAS)日前公佈最新統計指出,全球半導體晶片廠2004年第四季(10~12月)的產能利用率由前一季的92.5%降為86.0%。 根據SICAS的報告,半導體廠產能利用率數據是連續第二季下滑,與過去曾經連續六季成長的榮景大相逕庭,也更進一步證明全球半導體市場成長確實出現趨緩的跡象
Q2全球晶圓廠產能利用率創新高 (2004.08.26)
景氣復甦帶動晶圓廠產能利用率創新高,根據國際半導體產能統計組織(SICAS)所公佈的最新報告,2004年第二季全球晶圓廠產能利用率為95.4%,為2000年半導體上一波高峰期以來的最高紀錄;SICAS表示,以目前市場情況推估,2004年第三季與第四季全球晶圓廠產能利用率仍將維持高水準,但2005年起恐將開始走下坡
Q1全球MOS晶圓製程產能利用率為94% (2004.05.31)
根據世界半導體產能統計協會(Semiconductor International Capacity Statistics;SICAS)所公佈的最新統計,全球MOS晶圓製程產能利用率在2004年第一季為94%,較2003年第四季的92.4%成長1.6%
半導體設備產能利用率提升 顯見市況恢復 (2003.11.24)
據彭博資訊(Bloomberg)報導,世界半導體產能統計協會(Semiconductor International Capacity Statistics;SICAS)發佈最新統計數字顯示,2003年第三季(7~9月)全球半導體製造設備平均產能利用率達到88.3%,較第二季上升2.4%;此外近3季全球半導體製造設備平均產能利用率持續攀升,證明半導體市況正逐漸恢復
第一季半導體產能利用率微幅成長 (2003.05.26)
據全球半導體產能統計協會(Semiconductor International Capacity Statistics; SICAS)的統計,2003年第一季(1~3月)全球約50家半導體大廠之產能利用率終於在長期的低迷之後出現上揚,達到82.8%,較2002年第四季成長1.3%,顯示全球半導體需求在2003年初始開始微幅成長,並為低迷已久的全球半導體市場帶來好兆頭
全球半導體產能利用率下滑 反映景氣成長減緩 (2003.02.24)
據日經產業新聞報導,半導體產能統計協會(Semiconductor International Capacity Statistics;SICAS)日前發表最新統計數據指出,全球約50家半導體大廠於2002年第四季(10~12月)的平均月產能為556.9萬片(以8吋晶圓換算),雖較第三季微增,但產能利用率卻連續2季下滑,較第三季降低4.8%,僅達81.5%,反映出景氣成長的減緩

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