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跨领域设计概念整合 新离子植入技术诞生 (2006.09.25)
Epion Corporation为气体团簇离子束（Gas Cluster lon Beam；GCIB）设备开发商，日前与代理商帆宣系统科技合作，推广透过GCIB新的制程技术而开发出来的离子植入仪器－nFusion，功能在于使硅晶圆的掺杂过程（Doping）中
新植入设备诞生 Epion来台推广GCIB (2006.09.11)
Epion Corporation为气体团簇离子束（Gas Cluster lon Beam；GCIB）设备开发商，日前与代理商帆宣系统科技合作，推广透过GCIB新的制程技术而开发出来的离子植入仪器－nFusion，功能在于使硅晶圆的掺杂过程（Doping）中
帆宣代理Epion多功能原子尺度制程设备 (2005.09.12)
台湾半导体产业代理商帆宣系统科技宣布与美国Epion结盟，将代理Epion nFusion Doping System植入设备以及Ultra-Trimmer Corrective微蚀刻设备。Epion是GCIB气体集合离子束(gas cluster ion beam)设备开发者，主要用于微电子及相关产业制造


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