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讨论新闻主题﹕陶氏发表OPTIPLAN先进半导体制造化学机械研磨液平台

新闻 提要
陶氏电子材料是陶氏化学公司（DOW）的一个事业部，推出 OPTIPLANE化学机械研磨液 (CMP) 平台。 OPTIPLANE 研磨液系列的开发是为了满足客户对先进半导体研磨液的需求：能以有竞争力的成本，符合减少缺陷的要求和更严格的规格，适合用来制造新一代先进半导体装置。 全球CMP 消耗品市场持续成长，部分的成长驱动力来自新的3D 逻辑、NAND 快闪记忆体和封装应用，这些均要求大幅提高的平坦化效果和最低程度的缺陷率，以符合无数先进电子装置的性能需求。 「生产先进半导体晶圆的逻辑和记忆体晶片公司面临越来越多的挑战，要能满足不断改变的需求，增强性能, 降低成本和同时提高最大产量

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