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如何让电力电子产品和光电感测器有效降温 (2020.01.09)
爱美科感测与致动研究单位的计画主持人Philippe Soussan及其团队,提出了一项冷却解决方案,该解方采用优化且基于矽的微通道结构,能够大量排除多余的热能。
Digi-Key 与 Kionix签订全球经销协议 (2012.09.07)
Digi-Key日前宣布与 Kionix 签订全球经销协议。 Kionix 的总部设于美国纽约州伊萨卡 (Ithaca),专为消费性电子、汽车、工业和医疗市场客户提供领先的三轴加速计、陀螺仪及六轴组合产品
麦瑞宣布加州圣何塞代工厂已拥有MEMS制造能力 (2011.11.03)
麦瑞半导体(Micrel)于日前宣布,该公司设在加利福尼亚州圣何塞的晶圆代工厂,已开始投产微机电系统(MEMS),并表示已开始为一家MEMS厂商生产,同时也正在为其他几家初创公司开发MEMS生产工艺
哈姆处理技术 MEMS 和微光机电系统设备使用的 SOI 衬底和键合 DRIE-哈姆处理技术 MEMS 和微光机电系统设备使用的 SOI 衬底和键合 DRIE (2011.05.27)
哈姆处理技术 MEMS 和微光机电系统设备使用的 SOI 衬底和键合 DRIE
2层的DRIE三维(3D)MEMS结构研究-2层的DRIE三维(3D)MEMS结构研究 (2011.03.07)
2层的DRIE三维(3D)MEMS结构研究
发展DRIE CMOS工艺技术和集成的MEMS加速计-发展DRIE CMOS工艺技术和集成的MEMS加速计 (2011.03.01)
发展DRIE CMOS工艺技术和集成的MEMS加速计
HARM技术MEMS和微光机电系统使用SOI衬底和深蚀刻设备-HARM技术MEMS和微光机电系统使用SOI衬底和深蚀刻设备 (2010.09.20)
HARM技术MEMS和微光机电系统使用SOI衬底和深蚀刻设备
深蚀刻CMOS-MEMS陀螺仪的制备表征和分析-深蚀刻CMOS-MEMS陀螺仪的制备表征和分析 (2010.07.15)
深蚀刻CMOS-MEMS陀螺仪的制备表征和分析
合纵连横的3D IC国际研究趋势(上) (2009.11.03)
3D IC的研发工作是一件庞大的整合工作,加上其异质整合的特性,初期研发不是一间公司所能负担的起。目前,从亚洲到欧洲及美国都成立了一些研发联盟来推动3D IC的研发工作
Bosch Sensortec (2009.07.09)
Robert Bosch公司是全球最大的微机电系统(MEMS)传感器制造商,其MEMS芯片的生产量每年均超过1亿颗。在2005年该公司成立了子公司Bosch Sensortec,以便拓展汽车应用以外的MEMS产品,并进军消费性和其他产品领域
专访:Aviza业务营销副总裁David Butler (2008.10.09)
为了缩短SoC单芯片技术过于拢长的研发时程,并符合目前消费性电子轻薄短小且多功能的产品需求,市场开始寻求新一代的芯片整合技术,来因应越来越严峻的消费性市场挑战,其中3D IC便是目前最受关注的技术之一
Tegal同意并购Alcatel 3D封装与MEMS装置之产权 (2008.09.03)
电浆蚀刻和沉积系统设计制造商Tegal Corporation宣布,其已与Alcatel Micro Machining Systems(AMMS)和Alcatel-Lucent签约,以并购针对进阶3D晶圆层级封装应用的深层反应性离子蚀刻(DRIE),以及电浆体增强化学气相沉积(PECVD)产品线与相关知识产权
换个角度看制程 STS将蚀刻技术找到新位置 (2006.09.14)
过去,蚀刻技术属于IC制程的前端技术,称为蚀刻工程,蚀刻为利用化学反应将薄膜与以加工,始获得特定形状的作业,而STS(Surface Technology Systems plc)将蚀刻技术拉离前端制程,走入后端的先进封装,透过这次的版导体设备展宣布,开发一项新的深反应离子蚀刻(DRIE)电浆源
SiRes MEMS硅开发技术将取代传统石英振荡器 (2006.04.17)
美国硅谷私人创投企业SiTime 宣布,将推出以其专利MEMS FirstTM 为基础并和 EpiSealTM CMOS 技术兼容,发展制造出的 SiT1xxx 定频及SiT8002可程序化石英振荡器样本,提供业界试用
STS晶圆深层蚀刻机赢得Bosch订单 (2005.08.24)
使用电浆制程技术之MEMS(微机电系统)与相关市场之成长蒸蒸日上。电浆制程技术厂商Surface Technology Systems plc(STS)宣布,该公司新一代Pegasus晶圆深层蚀刻机(DRIE)已争取到德国自动化MEMS设备制造大厂博世(Robert Bosch)之订单


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