账号：
密码：
鯧뎅꿥ꆱ藥 3 곧
KLA-Tencor解决EUV研究和双次成像微影的挑战 (2010.02.22)
KLA-Tencor推出了最新一代的PROLITH虚拟黄光计算机仿真软件PROLITH X3.1。其让芯片厂商、研发机构及设备制造商能够迅速且具成本效益地解决超紫外线（EUV）和双次成像微影（DPL）制程中的挑战，包括与晶圆堆栈不平坦有关的边缘粗糙度（LER）和成像问题
KLA-Tencor新版黄光计算机仿真软件进一步克服EUV微影 (2008.10.14)
KLA-Tencor公司推出最新版的黄光计算机仿真软件 PROLITHTM 12。此新版本将协助芯片制造商及研发机构的研究人员能以具成本效益的方式，探索与超紫外光（EUV）微影相关的各种光罩设计、黄光制程材料及制程的可行性
KLA-Tencor推出可计算黄光双次成像的仿真软件 (2008.07.14)
KLA-Tencor公司推出黄光计算机仿真软件PROLITH 11。能提供用户评估目前双次成像技术的工具，协助用户在设计、材料与制程开发方面符合成本效益，探索光蚀挑战的替代解决方案


  跥Ꞥ菧ꢗ雦뮗
1 Infortrend U.2 NVMe储存系统赋能机场AI自助服务亭加速时程
2 捷扬光电首款双镜头声像追踪 PTZ 摄影机上市
3 Microchip为TrustFLEX平台添加安全身分验证 IC
4 igus新型连座轴承适用於太阳能追日系统应用
5 英飞凌全新边缘AI综合评估套件加速机器学习应用开发
6 ROHM推出车电Nch MOSFET 适用於车门、座椅等多种马达及LED头灯应用
7 意法半导体新车规单晶片同步降压转换器让应用设计更弹性化
8 恩智浦新一代JCOP Pay提供支付卡客制化服务
9 Microchip新款PHY收发器扩展单对乙太网产品组合 实现网路互操作性
10 Cincoze德承全新基础型工业电脑DV-1100适用於边缘运算高效能需求

AD
刊登廣告 ｜ 新聞信箱 ｜ 读者信箱 ｜ 著作權聲明 ｜ 隱私權聲明 ｜ 本站介紹
︱ Copyright ©1999-2024 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3
地址:台北市中山北路三段29号11楼 / 电话 (02)2585-5526 / E-Mail: webmaster@ctimes.com.tw