 |
罗门哈斯CMP表面沟槽设计拉动市场需求 (2008.09.15)
罗门哈斯电子材料（Rohm and Haas Electronic Materials）旗下的研磨技术事业部（CMP Technologies）宣布，其新型化学机械研磨垫表面沟槽设计能够减少缺陷和研磨液的用量，现已迅速得到全球各地市场的认可 |
|
罗门哈斯扩建亚太制造厂 增加在台投资 (2008.08.01)
罗门哈斯电子材料（Rohm and Haas Electronic Materials）旗下的CMP Technologies事业部，宣布将扩大其台湾新竹亚太区研磨垫工厂的投资，以加快提高产能，满足亚洲半导体生产客户不断增长的需求 |
|
罗门哈斯亚洲科技中心开幕 (2008.07.10)
罗门哈斯电子材料(Rohm and Haas Electronic Materials)CMP Technologies事业部宣布在台湾新竹的亚洲科技中心(ATC)正式开幕。ATC的成立使CMP Technologies事业部更密切地与以亚洲为基地的客户进行合作，并协助客户最有效地使用高阶 CMP制程与耗材，同时提供整个亚太地区的工程与技术支持 |
|
罗门哈斯获颁SSMC 2007年最佳供货商奖 (2008.05.22)
半导体产业之化学机械研磨技术厂商，罗门哈斯电子材料公司宣布其CMP Technologies事业处获颁Systems on Silicon Manufacturing Companys’2007年度最佳供货商.这也是罗门哈斯在4年内年第二次从SSMC获得 |
|
罗门哈斯获颁2007年SSMC最佳供货商奖 (2008.05.15)
罗门哈斯电子材料宣布其CMP Technologies事业处获颁Systems on Silicon Manufacturing Company’s（SSMC’s）2007年年度最佳供货商，这也是罗门哈斯在4年内年第二次从SSMC获得此项殊荣。这个奖项是类似罗门哈斯今年三月所获得的日立半导体新加坡卓越供货商奖 |
|
罗门哈斯槽沟新设计使钨CMP耗材成本降低20％ (2008.04.28)
罗门哈斯电子材料（Rohm and Haas Electronic Materials）CMP Technologies事业部推出了一项IC1000 AT和VisionPad CMP抛光垫的革命性槽沟设计。此项新型设计能够降低高达35％的耗浆量，这相当于将钨CMP的总耗材成本降低约20％ |
|
罗门哈斯与SKC合资提供平面显示器专用产品 (2007.08.15)
罗门哈斯(Rohm and Haas)与SKC(韩商鲜京化学)宣布成立合资公司，将专注开发、制造及销售先进平面显示器专用的光学与薄膜产品。此项合作结合罗门哈斯与SKC的优势，为现今最先进的液晶与电浆显示器提供各种独特薄膜产品技术 |
|
罗门哈斯电子材料获台湾内政部颁发绿建筑标章 (2007.04.17)
全球半导体产业之化学机械研磨技术厂商罗门哈斯电子材料CMP Technologies事业部，宣布该公司荣获台湾政府两个重要奖项的肯定，分别是内政部的『绿建筑』标章和新竹科学园区管理局的『2007年园区厂房绿美化优胜奖』 |
 |
罗门哈斯-亚太制造与技术中心落成记者会 (2006.11.23)
全球半导体产业之化学机械研磨技术领导与创新厂商--罗门哈斯电子材料公司CMP Technologies事业部，在苗栗竹南科学园区动土兴建的CMP Technologies亚太制造与技术中心即将落成启用，投入研磨垫生产制造的行列 |
|
创新研磨垫功能降低制程缺陷率和成本 (2006.10.31)
罗门哈斯电子材料公司（Rohm And Haas）是成立于1909年的全球特殊材料领导供货商，全球拥有1万7000名员工，2005年并达到80亿美元的年销售额。其技术遍及各种市场领域，包括建筑及营造业、电子产品及计算机、各项硬件及通讯设备、封装、家用及个人护理产品、汽车、纸业、零售食品及超级市场、大型商业中心，以及医疗领域 |
 |
创新研磨垫功能降低制程缺陷率和成本 (2006.10.30)
罗门哈斯电子材料公司（Rohm And Haas）是成立于1909年的全球特殊材料领导供应商，全球拥有1万7000名员工，2005年并达到80亿美元的年销售额。其技术遍及各种市场领域，包括建筑及营造业、电子产品及电脑、各项硬体及通讯设备、封装、家用及个人护理产品、汽车、纸业、零售食品及超级市场、大型商业中心，以及医疗领域 |
|
newsTaiwan 2006记者会 (2006.09.05)
罗门哈斯电子材料公司CMP研磨技术部门将宣布推出完整的研磨垫解决方案，其中包括VisionPad研磨垫系列的多款新产品和全新的IC1000AT系列研磨垫。新的VisionPads和IC1000 AT系列是罗门哈斯历来最重要的研磨垫产品，同时也展现该公司致力协助客户达到新兴技术和现有技术严苛要求的承诺 |
|
罗门哈斯与Dow Corning合作开发硅硬罩幕技术 (2006.07.27)
先进微影材料厂商罗门哈斯电子材料公司微电子技术事业部与全球材料、应用技术及服务整合领导厂商--Dow Corning日前宣布延展双方的共同开发协议，以针对次65奈米的闪存、DRAM和逻辑组件合作开发创新的旋涂式硅硬罩幕抗反射（spin-on silicon hardmask anti-reflective）涂层产品 |
|
罗门哈斯亚太制造与技术中心于竹南正式动土 (2005.12.06)
半导体产业化学机械研磨（CMP）技术领导者和创新厂商罗门哈斯电子材料（Rohm and Haas Electronic Materials）CMP Technologies事业处，正式为其设于竹南科学园区的亚太制造与技术中心举行动土典礼 |
|
CMP亚太制造中心动土典礼 (2005.11.22)
看好台湾十二吋晶圆厂群聚效应显著，半导体化学机械研磨（CMP）大厂--罗门哈斯电子材料公司（Rohm & Hass）旗下CMP technologies，启动亚太制造技术中心计划，将在新竹科学园区的卫星园区竹南园区，兴建研磨垫片制造厂和技术中心，预计2007年第一季量产，除将支持台湾及亚太地区十二吋厂需求外，最高技术也可支持至六五奈米制程 |
|
罗门哈斯为CMP公司启动亚太制造技术中心计划 (2005.08.26)
罗门哈斯电子材料公司CMP技术事业部于24日宣布将在台湾的新竹科学园区的卫星园区—竹南科学园组建一个垫片制造厂和技术中心。罗门哈斯电子材料公司CMP Technologies亚太制造技术中心将涵盖下一世代IC1000TM研磨垫片生产、一个精良的应用实验室，还有销售及客户支持办公室 |
 |
罗门哈斯 为晶圆制造厂商提供浆料新选择 (2005.07.21)
罗门哈斯电子材料公司CMP技术事业部推出一种新型铜阻障层研磨液，专门设计来协助用户处理90nm和65nm技术节点下低介电质(Low-K)整合方案中的化学机械平坦化问题。新型LK393c4铜阻障层研磨液是与晶圆制造商密切配合下开发而成，与其它现有研磨液配方相比，其选择比和研磨速率可帮助用户将芯片产量和所有权成本提升25%到30% |
|
罗门哈斯CMP研磨液产品进军90奈米制程 (2004.09.14)
半导体设备及材料业者罗门哈斯电子CMP技术事业部，发表专为90奈米低介电（Low-k）制程化学机械研磨应用的优化非酸性阻挡层研磨液产品；罗门哈斯表示，该LK系列阻挡层研磨液具备整合性与弹性应用的优势，目前也已经有多家客户正在进行实际试用中 |
|
罗门哈斯之CMP 研磨剂获12吋晶圆厂采用 (2004.09.06)
半导体材料业者罗门哈斯电子材料的研磨技术部门（Rohm and Haas Electronic Materials CMP Technologies）宣布，一家主要的12吋晶圆厂采用该公司所生产的铜和阻挡层CMP 研磨剂之后，大幅提高了高阶制程的总产量 |
